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国内首款12英寸多晶碳化硅衬底问世

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AI 综述

2026年10月29日,湖南泰坦未来科技推出国内首款12英寸多晶碳化硅(Poly-SiC)衬底,瞄准AI芯片与先进封装散热瓶颈。报道称该衬底沉积速度达每小时60微米,最低电阻率小于1毫欧·厘米,孔洞缺陷少于每平方厘米0.1个,热导率≥300W/(m·K)。产品已通过台积电相关认证测试并向三星送样,正从样品验证转向小批量试产,预计2027年后逐步规模化供货。

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10月29日
  1. IT Home
    给 AI 芯片“退烧”:国内首款 12 英寸多晶碳化硅衬底在长沙问世,通过台积电认证测试、并给三星送样

    湖南泰坦未来科技推出国内首款 12 英寸多晶碳化硅(Poly-SiC)衬底,瞄准 AI 芯片与先进封装散热瓶颈。该衬底沉积速度达每小时 60 微米,最低电阻率小于 1 毫欧·厘米,孔洞缺陷少于每平方厘米 0.1 个,热导率≥300W/(m·K)。产品已通过台积电相关认证测试并向三星送样,正从样品验证转向小批量试产,预计 2027 年后逐步规模化供货。

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